华海清科申请化学机械抛光控制方法专利实现化学机械抛光过程的自动控制
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华海清科申请化学机械抛光控制方法专利，实现化学机械抛光过程的自动控制。
金融界2024年7月12日消息，天眼查知识产权信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及电子设备”，公开号CN202410519807.X，申请日期为2024年4月。专利摘要显示，本申请提供一种化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及电子设备。方法用于对晶圆进行化学机械抛光，晶圆包括第一薄膜和第二薄膜，华海清科申请化学机械抛光控制方法专利，实现化学机械抛光过程的自动控制。第一薄膜覆盖在第二薄膜的上方，方法包括：获取当前晶圆之前的多个历史晶圆在化学机械抛光时由抛光头施加的抛光...